纳米半导体薄膜材料微结构和物性的研究

基本信息
批准号:19374009
项目类别:面上项目
资助金额:7.00
负责人:何宇亮
学科分类:
依托单位:北京航空航天大学
批准年份:1993
结题年份:1996
起止时间:1994-01-01 - 1996-12-31
项目状态: 已结题
项目参与者:林鸿溢,魏圣恩,和志刚,傅明功,毛自力,李树奎,蒋耘晨,武旭辉
关键词:
纳米半导体微结构量子点
结项摘要

使用HREM及STM技术观测了微晶粒及界面区的结构,发现在微晶粒的边界存在如同体单晶硅的位错、层错和孪晶。尤其在界面区呈现出较多的环状原子团,说明它具有特殊的短程有序性。纳米硅膜具有高电导特征,经理论分析表明高电导主要来自于晶粒,界面可近似视为绝缘层。这样,只具有几个nm大小的微晶粒显示出量子点特征。提出了异质结量子隧穿模型介释了其高电导特性,并给出—完整的电导率表达式。使用薄层纳米硅膜制成隧道二极管结构,在液氮温度范围(~77K)呈现出量子振荡现象,是我们的一个重要发现。纳米硅膜在可见光及红外区具有高的光吸收系数。对某些特定结构的硅膜(Xc<30%,d≤3.5nm)在650-750nm范围能发射出可见的PL谱和EL谱。

项目摘要

项目成果
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数据更新时间:2023-05-31

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