熔盐电镀钨的基础研究及工艺参数的优化

采用拉曼光谱和X射线衍射法研究了Na2WO4-ZnO-WO3系熔体结构为Na2.4Zn0.8W2O7。首次用循环伏安、记时电流和记时电位方法研究了钨的电化学反应机理为一步6电子放电的准可逆反应，其电结晶符合三维连续形核过程。首次用（222）不完整极图确定了镀层具有板织构特征，用电子背散射衍射并借助菊池线精确测定了晶粒的方向，证明了镀层生长为随机形核，择优长大过程。优化后的参数为：850-950℃，WO3的浓度为20mol%，电流密度为50-100mA/dm(3)，用双脉冲镀，成功地制出约500μ厚镀层。