金属薄膜沉积中的亚阈值能量氦引入及氦行为研究

采用自行研制的一种微波ECR等离子体辅助离子束溅射沉积新技术，研究薄膜沉积中亚阈值能量的氦引入和氦存在行为。揭示ECR氦等离子体辐照性质（等离子体密度、温度、电位）和沉积工艺参数对引入的氦浓度、氦的存在状态、氦的释放以及薄膜成分、结构、缺陷和性质的影响，并与离子注入和氚化物中氚衰变产生的氦进行对比研究，阐明该氦引入方法的特点，建立无辐照损伤且在体内均匀分布的高效引氦方法。用动力学蒙特卡罗方法（KMC）模拟ECR等离子体辅助离子束溅射沉积含氦薄膜的生长，从理论上了解离子束溅射沉积参量及氦等离子体性质对引入氦浓度及薄膜生长的影响。这为发展高性能的储氚固氦材料，促进聚变能源的开发以及氦缺陷在其它领域的应用提供了重要的研究方法。