超薄镜面数控真空自励抛光技术的研究

本项目研究的真空自励抛光技术，是一种新型的用于解决大型超薄镜面和高度轻量化非球面数控加工的工艺技术，利用研制的自励磨头，在新的工艺模型下，成功地解决了120x120mm厚径比小于1/60的超薄镜面加工，使其面形精度小于λ/20rms。同时通过大量工艺实验，对磨头加工机理，工艺过程以及它对元件表面质量和面形精度收敛速度的影响和关系等方面，进行了深入细仔研究，形成了完整，成熟的技术规范，并利用该技术设备，有效地解决了空间光学系统中φ600mm高度轻量化离轴非球面主镜的精磨，使面形精度快速收敛到0.6μm rms，满足了国家工程任务的需要，同时发表学术论文一篇，实用新型专利一项，课题研究按计划按期得到了圆满的完成。