正电子湮没二维多谱勒系统与金属间化合物晶体缺陷研究

本项目拟在慢正电子束流系统上建立二维多谱勒展宽符合测量方法，以此为主要研究手段，采用离子束和磁控复合溅射制备TiAl多层膜，系统研究TiAl多层膜界面处缺陷的构型、缺陷的迁移运动机制以及缺陷周围原子的化学状态，研究TiAl多层膜退火过程中缺陷的回复行为，揭示空位迁移的微观机制，为金属间化合物的计算机人工设计提供实验依据。