本项目利用磁控溅射手段生长了一系列单、双和多层(含周期和准周期)金属薄膜,利用X射线衍射、反射等实验手段研究了衬底材料及溅射速率、气压等生长参数对薄膜结晶度、界面等的影响,研究了生长条件与物理性能的关系;采用长时间室温钝化和热退火处理研究了多层膜材料的结构稳定性及对物理性能的影响;采用铁磁共振、四探针等实验技术研究了磁多层膜的磁学和磁输运性质;利用同步辐射技术比较研究了不同薄膜材料的软X射线反射率;理论计算了一维准周期材料的软X射线反射率;理论计算了一维准周期多层膜的衍射特征和物理性质,得到了与实验一致的结果,同时将计算结果进一步拓展到介观多层膜体系。该项目的实施培养博士研究生2名,硕士研究生2名,在国内外学术刊物发表论文近五十篇。
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数据更新时间:2023-05-31
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