金刚石薄膜场发射特性的研究

在大量实验研究的基础上，成功地在Si衬底上实现了大面积淀积金刚石薄膜，并得到了用于FED的金刚石薄膜的优化工艺条件。首次将神经网络应用于金刚石薄膜场发射特性的预测，并初步建立了用于预测的工艺参数和薄膜特性的数据库，实验证明该方法具有很好的准确性，可指导薄膜材料的研究。在平板显示应用方面，我们系统地研究了从器件封装、驱动电路到工作稳定性、显示器寿命等各个环节。驱动部分采用阳极驱动，使用叠加在一个直流电压上的50V的信号电压实现；采用离子注入工艺提高了薄膜场发射的一致性和均匀性。研制的3英寸FED样管在6V/μm的电场下即可稳定工作。碳纳米管阴极在3V/μm的电场下即可得到清晰的图象。获专利一项，发表论文42篇。