波前共轭全息微光刻研究

在深入研究全息照相和光刻技术基础上，提出把全内反射全息用于光刻研究，对其原理、理论、实现方法和传统掩模—全息掩模—抗蚀剂图形传递机理进行了深入的研究；结合耦合波理论，研究了记录材料胀缩及介电常数改变对全息掩模衍射效率的影响；研究了全息掩模复位精度、再现光波长偏移、光速共轭性偏差以及偏等因素对光刻分辨率和光刻结果的影响；设计和建立了全内反射全息光刻实验系统；完成了曝光实验。结果表明，波前共轭全息微光刻技术具有大视场、高分辨、无畸变、低成本等优点，在微电子、光电子、大屏幕平板显示器等领域具有广阔的应用前景。在核心刊物和学术会议上发表论文15篇，申请专利5项，培养硕士研究生1名，完成成果登记1项。