直流旋转电弧等离子体的数值模拟及实验研究
基本信息
批准号：10675017
项目类别：面上项目
资助金额：26.00
负责人：唐伟忠
学科分类：
依托单位：北京科技大学
批准年份：2006
结题年份：2008
起止时间：2007-01-01 - 2008-12-31
项目状态： 已结题
项目参与者：王凤英,姜春生,刘伟,耿春雷,黑立富
关键词：
直流旋转电弧等离子体数值模拟金刚石膜
结项摘要
旋转电弧等离子体喷射法是我国独立发展的一种金刚石膜高速沉积技术，其技术关键在于利用电弧的动态旋转效应使等离子体实现大面积的均匀化。为推进这一技术的不断发展，急需开展有针对性的数值模拟研究。本项目就是要建立适用于直流旋转电弧等离子体的数学模型，开展三维、非定常态的旋转电弧等离子体的数值模拟研究，考察动态旋转的直流电弧喷射大面积等离子体均匀性，包括等离子体流场、温度场和成分场在金刚石膜沉积表面处分布均
项目摘要
项目成果
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数据更新时间：2023-05-31
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