目前的双光束干涉点阵光刻系统制作DOVIDs的速度距离理论值相差近一个数量级。本项目将在对影响双光束点阵光刻系统光刻速度的因素作详细的研究分析基础上,针对系统分辨率、响应速度和优化时间等主要的技术指标对系统的光学部分和XY精密移动部分进行优化设计和研制。利用非线性拓扑理论探讨新的光刻优化模型和算法,实现光刻图像的大范围甚至全局的优化。根据所确定的优化模型和算法开发便于操作、运行可靠的控制软件,从而使所研制的双光束干涉点阵光刻系统的分辨率和工作速度得到明显的提高和实现重现颜色可调的DOVIDs制作。本项目的研究工作结合全息学、数学、计算机图形学等多门学科的技术优势把衍射光学可变图像的光学防伪技术提高到一个新的水平和使高分辨率DOVIDs得到更广泛的实际使用。
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数据更新时间:2023-05-31
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