β-Ga2O3晶体的p型掺杂、外延单晶生长及物理性能研究

基本信息
批准号:51572241
项目类别:面上项目
资助金额:64.00
负责人:李培刚
学科分类:
依托单位:浙江理工大学
批准年份:2015
结题年份:2019
起止时间:2016-01-01 - 2019-12-31
项目状态: 已结题
项目参与者:王顺利,朱志艳,朱晖文,吴小平,汪鹏超,潘傲秋,谢世奎,刘晗
关键词:
βGa2O3晶体外延单晶生长光电性能p型掺杂宽禁带半导体
结项摘要

β-Ga2O3,a wide-bandgap semiconductor with band gap of 4.9 eV, has a potential applications in solar-blind ultra-violet device. Obtaining p-type β-Ga2O3 single crystal is a key step to make such material being used in opto-electronic devices more extensivily. In this proposal, we will focus on the work about p-type doping of β-Ga2O3 their expiatial single crystal growth. The study includes following aspects: 1) The first principle caculation will be used to study the doping effect on the crystal structure and electronic structure,aiming to understand the physical mechanism of the forming of p-type β-Ga2O3. 2) Solid state reaction method will be used to synthesis dopedβ-Ga2O3, and measure their properties. 3) Laser molecular beam epitaxial technique will be used to deposite p type β-Ga2O3 single crystal on Al2O3 single crystal andβ-Ga2O3 single crystal,and their properties will be characterized as well. 4) system study the effect of doping element,defects and process parameters on the properties of the doped β-Ga2O3 films, and exploring potential applicable of p type β-Ga2O3 single crystal on opto-electronic device. By analyzing the experimental results, we will well understand the growth technique, mechanism and properties of p type β-Ga2O3 single crystal, these are scientific valuable and useful for the practical design and manufacture the device using p type β-Ga2O3 single crystal.

β-Ga2O3晶体的禁带宽度为4.9eV,是制造日盲区紫外光电器件的理想材料。获得具有p型导电特性的β-Ga2O3单晶是该材料能够在光电器件上广泛应用的关键。本项目主要针对β-Ga2O3的p型掺杂及外延单晶生长展开研究。内容包括四个部分:1、理论分析掺杂对β-Ga2O3晶体结构和电子结构的影响,掌握p型掺杂的物理机制;2、利用固相合成法对β-Ga2O3进行掺杂,并对其性能进行研究;3、利用激光分子束外延法在蓝宝石单晶和β-Ga2O3单晶上外延生长p型β-Ga2O3单晶,并表征其性能;4、系统研究掺杂元素、缺陷种类,以及工艺参数对p型β-Ga2O3单晶性能的影响及规律,获得稳定的p型β-Ga2O3单晶材料,探索其在日盲紫外光电器件方面的潜在应用。通过本项目的研究,很好的掌握p型β-Ga2O3单晶的制备技术、生长机理、物理性能,为其在器件方面的应用提供理论基础和实验积累。

项目摘要

氧化镓材料是新一代半导体材料,在日盲紫外光电器件和高功率器件制备方面,具有非常巨大的潜在应用价值,但是目前,氧化镓的基本材料还有待深入研究,比如高质量的单晶生长,外延单晶薄膜生长,掺杂调控等性能都需要深入系统的研究。本项目主要针对氧化镓外延单晶薄膜的生长,掺杂调控,以及物理性能研究,旨在获得具有高性能的氧化镓薄膜,争取获得p型氧化镓外延单晶。主要研究内容包括:1、理论分析掺杂对氧化镓晶体结构和电子结构的影响,掌握掺杂对氧化镓晶体结构和电子结构的影响趋势和机理;2、利用薄膜外延技术,研究氧化镓外延薄膜生长工艺,在蓝宝石衬底和氧化镓单晶衬底上制备高质量的氧化镓外延薄膜;3、系统研究掺杂对氧化镓薄膜的性能的影响;4、探索氧化镓在光电器件方面的潜在应用。通过研究主要获得了以下重要结果:1、获得高质量的外延薄膜以及生长工艺;2、对薄膜进行掺杂,获得了具有不同元素掺杂的氧化镓薄膜;3、获得了高质量的光电探测器件,能够用于日盲紫外光电探测;4、获得了p型氧化镓单晶薄膜;5、制备出了氧化镓基紫外辐照计,具有良好的性能。总之,本项目的研究,对氧化镓薄膜材料有了深入的理解,以及初步的应用探索,为未来的更深入的器件研究打下良好的基础。

项目成果
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数据更新时间:2023-05-31

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