在金刚石压砧装置(DAC)上,采用我们建立的电阻和电容测量方法,主要研究了几种半导体(PbSnTe、HgCdTe、GeSbTe、MoS2与CuS的烧结体和CuS)、两种不同的导电聚苯胺和偏硼酸钡(β-BaB2O4)等在高压下的电学性质,得到了一些有价值的和规律性的研究结果,发现一些新的相变和现象。这些研究结果都是目前国内外未见发表过的。在DAC上,采用电容测量方研究高压下的相变,这在国际上是首创。目前,我们已能在DAC上同时采用电阻和电容测量方法研究固体在高压下的电学性质与多种相变。这在国际上是属于领先的水平。
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数据更新时间:2023-05-31
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