激光诱导金属化学沉积过程研究
基本信息
结项摘要
激光诱导化学沉积金属方法的主要特点在于可以在不同电子材料(陶瓷、四氟乙烯等)基体上不用掩模获得各种微区(微米级)金属镀层.同时结合计算机辅助设计系统可直接在电子基材上形成金属线条,图形,工序较一光刻法简单,速度快,结合力亦可达到工业要求.我们已经在钯/陶瓷,金/陶瓷,钯/聚酰亚胺,镍合金/硅体系中实现了激光诱导局部沉积金属;研究了沉积的选择性,沉积速度结合力与激光功率,波长等因素的关系,已获得一些最佳实验条件,现已选定钯/陶瓷,金/陶瓷体系作为实际应用开发.本方法还可用于曲面上生成金属图形,这是一般薄膜工艺无法实现的.该方法作用机理较为复杂,包括光电化学,热解,光解反应等,极具研究意义.
项目摘要
项目成果
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数据更新时间：2023-05-31
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