ICP光源中基体干扰机理研究──应用CCD成象光谱仪

在国内首次报道了用CCD成象光谱技术作工CP光源中基体干扰研究。自装了色散选通复合成象CCD光谱仪，成象质量好，图象空间分辨率高，建立了一套计算机实时图象集和图象处理软件，该软件未见有人报道过，研究了不同基体对Ca离子线所产生的基体效应的横向、垂直方向和整个空间位置的分布规律、发现了不同基体所产生的抑制程度与基体的第一电离电位有近似线性关系，第一电离电位越小的基体产生的效应越大，实验证明由于ICP空间分布不一，不能只用一种干扰机理来说明干扰效应，提出了易电离元素与环形区的高能量耦合引起增感和未蒸发和基体粒子引起抑制两种机理，在较低观察区，第一机制为主，在其余观察区，第二机制是主要的。