工频磁场促癌效应及其机理研究

基本信息
批准号:39370587
项目类别:面上项目
资助金额:5.00
负责人:姜槐
学科分类:
依托单位:浙江大学
批准年份:1993
结题年份:1996
起止时间:1994-01-01 - 1996-12-31
项目状态: 已结题
项目参与者:杨惠娟,沈永浩,邵斌杰,李昌敏,鲁德强
关键词:
工频磁场促癌
结项摘要

本项目主要用电渗法观察50Hz磁场对CHL细胞间缝隙连接功能(GJIC)的影响,研究工频磁场是否存在促癌和/或与TPA协同促癌效应。结果得出TPA抑制GJIC的阈浓度为1-5ng/ml,取阈上值5ng/ml进行联合效应实验。研究发现(1)工频磁场能抑制CHL的GJIC,0.8mT的工频磁场不仅能协同TPA抑制GJIC,并其单独作用近似于5ng/ml的TPA,(2)较低强度的工频磁场(0.2mT,0.4mT)对GJIC无影响,但可增强TPA对GJIC的抑制,更低强度的工频磁场则无作用。(3)本研究所得0.8mT强度与以往用UDS研究工频磁场所得“振幅窗”接近。此外用Northern B lot研究工频磁场对C-myc转录的影响,未见阳性结果。GJIC研究结果对工频磁场促癌效应研究是一个新进展。

项目摘要

项目成果
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数据更新时间:2023-05-31

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