龋病在中国是一个严峻的问题,龋病发生时最先遭到破坏的是牙釉质,并且釉质羟基磷灰石(HA)晶体中心暗线(CDL)是择优腐蚀部位。目前已有实验表明CDL可能是厚度为单个晶胞的磷酸八钙(OCP)晶体层,因此CDL处可能存在两个OCP/HA界面缺陷,然而对于釉质CDL结构至今仍不完全清楚。本研究拟采用实验观察和计算模拟相结合的方式对人牙釉质晶体CDL的OCP/HA界面结构进行研究。在实验方面,拟借用能量过滤场发射透射电子显微镜电子能量损失谱、高分辨等技术,从原子尺度研究釉质晶体CDL的化学成分、晶体结构等。在模拟方面,拟基于我们近期在体内外磷酸钙盐上发现的OCP/HA晶体取向关系,建立OCP/HA界面结构模型,模拟釉质晶体CDL的宽度、晶格像等,并与实验结果进行比较,更好的分析、理解釉质晶体OCP/HA界面结构。研究结果可以为防治和解决龋齿问题提供指导。
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数据更新时间:2023-05-31
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