本项目通过采用数值算法自洽求解Poission和Schr?dinger方程,计算在AlxGa1-xN/AlyGa1-yN/GaN结构中,不同缓变层AlyGa1-yN厚度和Al、Ga组分比形成的异质结导带差大小,以及2DEG中靠近异质结界面的横向电场随导带差的变化情况,进而得出缓变层AlyGa1-yN厚度和Al、Ga组分比对2DEG中靠近异质结界面横向电场的影响;同时,用TCAD软件从物理结构角度来仿真在AlxGa1-xN/AlyGa1-yN/GaN结构中,缓变层AlyGa1-yN厚度和Al、Ga组分比改变,对器件直流和交流特性产生的影响,为确定最佳器件外延层结构提供理论上分析;再通过实验,实际在蓝宝石衬底上外延生长AlxGa1-xN/AlyGa1-yN/GaN HEMT,并进行流片和大信号测试;在此基础上建立一种新的改进的大信号模型,并把建立的模型嵌入到ADS微波电路设计软件中。
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数据更新时间:2023-05-31
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