硅材料在微电子集成领域有着不可替代的地位,现代微电子工艺的飞速发展都是以硅材料为基础的。微(纳)光电子集成技术必须解决的关键问题: 硅基材料稳定、高效发光的理论与工艺研究,制备出高效硅基发光器件。用离子注入技术在硅基材料中分别注入III 族(In或Ga)离子和V 族(As或Sb)离子;利用III -V 族化合物与硅材料的晶格常数的差异和热力学性能的不同,以及注入引起缺陷提供的扩散通道,通过控制注入参量结合后退火工艺,在硅基材料中形成III - V 族半导体量子点。用离子束背散射/沟道能谱分析技术和高分辨透射电镜及相关光学性能测试技术,研究掺杂元素的扩散,缺陷密度的变化,缺陷对元素扩散的影响;研究量子点的成核、生长机理,为制备高效硅基发光器件提供新的途径和科学依据。制备出镶嵌III - V 族半导体量子点的硅基发光二极管。
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数据更新时间:2023-05-31
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