外场控制激光沉积超导薄膜均匀性与膜面质量

作为高曙超导最有希望实用化的材料，超导薄膜正受到学术界的极大重视。脉冲激光剥离法以其沉积速率快、基片温度低、保成份性好等优势成为目前最佳的超导薄膜制备方法之一。但其存在膜均匀性和膜面质量不佳两个影响实用的关键难点。本项目拟用外场控制靶面等离子体状态的方法予以解决，对策得优质超导薄膜和发展激光制膜技术均具有重要意义。