微粒在等离子体中沉降时的界面反应动力学研究

本项目研究将PECVD改装成冷等离子体纯化硅等微粒的装置、纯化工艺的优化及预处理的方法。在理论和实践上证明冷等离子体冶金效应的可行性及工业应用前景并建立粉粒沉降速率、微观粒子的输运及纯化过程中的气相与界面反应动力学模型。研究结果表明可将预处理后纯度为99.95%的硅粉提纯至99.9995%。按上述研究内容建立的理论模型是从微观动力学方法入手最后改变成反映工艺参数的唯象方程。这在模型建立的方法上具有独创性，结果有利于工艺控制上应用。按计划发表了5篇论文。由于本研究是针对我们自己发现的现象“冷等离子体淀积中的冶金效应”，因此整个工作具有很好的工业应用前景。