在串列加速器离子束分析管道上串接一靶室,在其中安装了低能离子溅射枪和高能离子背散射分析系统,以及靶室主真空机组和离子轮差分真空机组,建成了离子溅射剥层/背散射原位分析系统。适合于对厚样品、多层膜、深埋杂质分析,为薄膜研究提供了具有一定特色的组合分析手段。靶室本底真空度为4×10(-6)Pa。样品可转动,在不破坏靶室真空情况下,实现样品溅射剥层和RBS分析。Ar离子能量、束流、束斑位置均可调节,并可作光机扫描。利用这原位分析系统,已对Au/Si、Si/(GexSi1-x/Si)/Si、WSix/Sio2/Si、YBa2Cu3O7等样品进行了溅射/RBS分析,取得了实验结果,显示了这一组合分析方法对厚样品、深埋层分析的优越性。这一组合分析方法在国内尚属首次进行研究。
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数据更新时间:2023-05-31
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