磁性超薄膜和图形化薄膜的研究

对厚度为4-30 ML的GaAs和InAs及其他衬底上分子束外延生长的Fe及其他单晶铁磁超薄膜和10 nm以下的NiFe或NiFeCo合金多晶膜的结构与磁性，用铁磁共振等方法进行系统研究，阐明上述薄膜与超薄膜的结构与磁性的演化过程，包括磁化强度，磁各向异性、旋磁比和磁滞回线变化的规律与机制及线宽与阻尼因子的关系。研究用电子束刻蚀为不同亚微米阵列的上述薄膜与超薄膜的磁性对阵列元的尺寸及间距的依赖关系。