相控全息与近场光刻联用制备功能性光子晶体的技术研究

本项目拟结合相控全息技术和近场微纳光刻技术，制备含功能性缺陷的光子晶体。相控全息技术用于制作光子晶体周期性结构，通过调节其关键部件空间光调制器，改变各全息光束的相位，经单棱台聚光，在光刻胶上形成实验所需的布拉伐格子全息光场。近场微纳光刻技术用于对被全息光场曝光后的材料进行精确缺陷加工，其中获得近场探针与相控全息所形成的布拉伐晶格光场分布的相对位置是本项目的关键技术。我们将通过上述技术的结合，实现高精度先后曝光叠加及单次显影，精确制备出光子晶体波导，光子晶体微腔等光子器件。本项目是融合了近场光刻与表征、相控全息、电子控制、计算机图像处理等现代技术的综合性研究项目，将为制作带有精确功能性缺陷的光子晶体提供一种有效而确切可行的方案。

本项目拟结合相控全息技术和近场微纳光刻技术，制备含功能性缺陷的光子晶体。相控全息技术用于制作光子晶体周期性结构，通过调节其关键部件空间光调制器，改变各全息光束的相位，经单棱台聚光，在光刻胶上形成实验所需的布拉伐格子全息光场。近场微纳光刻技术用于对被全息光场曝光后的材料进行精确缺陷加工;本项目在执行的过程中,重点结合本课题组原有的技术积累及实验条件,重点研究以下几项技术,相控全息曝光技术,应用于光子晶体周期性结构的制备；高聚焦激光三维测量技术,重点用于高精度的三维测量；微纳定位技术，用于大面积周期性光子器件的光机电定位；微弱光电信号检测技术即自制模块化锁相放大技术，应用于光电反馈信号的；同时将相关的技术应用于全息三维显示。此外为了实现具有类比功能的器件分析技术,对微电子器件现场可编程逻辑阵列的电磁波特性进行了系列研究。本项目所实现的技术为微纳光子晶体器件的操控与表征提供了多项有意义的技术手段。