高性能垂直膜面各向异性永磁厚膜材料的研究

高性能永磁膜由于在微电子机械系统方面有着重要的应用前景，近年来受到广泛重视。如何获得厚度为2微米到50微米的高性能垂直膜面各向异性永磁厚膜是目前研究的热点和难点。本项目在已有的初步研究结果基础上提出采用多层膜的方法制备高性能垂直膜面各向异性的永磁厚膜材料。我们将系统研究溅射沉积条件对间隔层、缓冲层生长规律、RE-Fe-B的柱状晶的形成机理、间隔层(缓冲层)/RE-Fe-B磁性层界面、内应力、垂直膜面各向异性和永磁性能的影响，研究垂直膜面各向异性永磁膜矫顽力机制和各向异性多层膜纳米复合机理，探索出具有实用意义的高性能垂直膜面各向异性永磁厚膜材料，为微电子机械系统用永磁厚膜材料研究奠定基础。