课题在国内外首次提出了超光滑泺这表面波度的存在。通过对抛光温度、抛光压力、抛光相对速度、抛光摩擦力、抛光模粘弹性及光学抛光工艺过程等的实验研究和分析,揭示了光学超光滑表面波度形成的机理。光学表面波度按波距大小可分类三类:①1000μm以上,这类波度主要是由抛光时,多次调整工艺参数以修整光圈的抛光工艺过程造成,②100μm-1000μm,这类波度主要是抛光过程中,热源光压力及抛光速度的不均匀分布和变化,导致表面抛光去除量不均匀造成的;③100μm以下,这类波度主要是由于在使用沥青等软韧性抛光模时,在抛光表面间出现粘滑摩擦振动造在怕。通过大量的实验,提出了利用双层结构的沥青抛光模获得低表面度的抛光工艺方法和条件。
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数据更新时间:2023-05-31
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