生长在液相基底表面功能薄膜的物理机理研究

基本信息
批准号:10574109
项目类别:面上项目
资助金额:32.00
负责人:叶高翔
学科分类:
依托单位:浙江大学
批准年份:2005
结题年份:2008
起止时间:2006-01-01 - 2008-12-31
项目状态: 已结题
项目参与者:陶向明,杨波,陈苗根,谢建平,章盛林
关键词:
自由边界条件液相基底表面及界面效应薄膜
结项摘要

采用实验研究、计算机模拟和解析计算相结合的方法, 对沉积在不同种类液相基底表面的诸多功能薄膜系统(铁、氧化锌、有机半导体薄膜等)进行深入系统的研究。在诸如薄膜内应力形成及演化、内应力与薄膜功能的关系(如磁化规律、磁阻效应、光荧光谱、阻温特性等)、表面声子谱、相变及临界现象、非平整表面效应、低温尺寸量子效应等方面, 揭示此类具有近似自由界面和边界条件的新型薄膜系统中的各类奇异规律; 改进和创新传统的二维理论及模型(如结晶理论、磁化理论、团簇扩散凝聚模型等), 根据薄膜样品的特征边界条件, 对其中的结晶规律、缺陷运动、自组装现象、磁畴生长、磁化规律等基础问题进行深入的理论研究, 初步建立有关液相基底表面功能薄膜生长及物理效应的新理论, 使之成为现代薄膜物理的一个新颖分支, 展示其重要的理论价值和广阔的应用前景。

项目摘要

项目成果
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数据更新时间:2023-05-31

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