超平面布图模型研究

当今，集成电路已走向亚微米、深亚微米工艺，而集成度可达十几万至几十万门的规模。超平面布图研究的课题就是针对这个新的发展领域提出的解决其布图中的多层布线问题，从而设计出集成电路生产中所必不可少的重要的掩模版。本布图模型可以更好地体现多层布线的内在本质约束，首先，依据广义联接度对电路进行结群和分划，考虑到群构形的最优化，将电路分划为一些模块，并对其按模糊边界技术进行布局、布局调整和pin分配，在布局基础上进行超平面布线，该算法以全新的逆回删冗策略成功地解决了布线线序的问题，使线网布线达到并行处理。采用总体分析方法使布线过程避免了迭代，达到以较高的处理效率获得了高精度的结果。