高能聚焦电子束硅纳米线加工及相关物理问题研究

基本信息
批准号:60776007
项目类别:面上项目
资助金额:32.00
负责人:朱贤方
学科分类:
依托单位:厦门大学
批准年份:2007
结题年份:2010
起止时间:2008-01-01 - 2010-12-31
项目状态: 已结题
项目参与者:王连洲,张淑红,李静,李论雄,孟焘,吴燕,苏江滨,陈志华,吴政
关键词:
纳米曲率效应软模效应透射电镜原位观察硅纳米线纳米打孔和切割
结项摘要

电子束是目前唯一的既可以进行纳米加工又可以原位观察纳米结构的手段。本项目拟采用高压透射电镜原位观察技术,开展高能聚焦电子束对硅纳米线辐照效应系统深入研究。通过观察高能聚焦电子束与硅纳米线的交互作用,研究高能聚焦电子束快速能量沉积(包括非热激活和热激活)引起的硅纳米线结构的各种变化,重点研究文献中忽略的超快能量沉积引起的局域软模乃至局域"融蒸"和"离削"引起的结构变化、收缩、打孔和切割效应,以及硅纳米线表面曲率对这些效应的影响。为确定新一代纳米器件电子束加工工艺和电镜检测提供可靠参数和科学依据。

项目摘要

项目成果
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数据更新时间:2023-05-31

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