用等离子体化学气相沉积法开发出聚变第一壁锂硅复合涂层新技术。该涂层对等离子体杂质及再循环有强抑制作用,可以显著改善等离子体性能。在HL-1M托卡马克上应用,大幅度提高了等离子体品质,改善了内部约束。与目前国际先进的硅化、锂化技术比较有明显优势:使等离子体碳、氧杂质及辐射损失功率比用硅化分别减少一半、30%及25%左右;涂层有效使用寿命比锂涂层增大1~2个数量级;涂层对氢原子和离子有强吸咐.附效应,大大降低了氢再循环,使等离子体密度控制比硅化和锂化更容易。这项技术在HL-1M成功开展先进加料与辅助加热等聚变关键技术实验研究中起了重要作用,为HL-2A及其它受控核聚变实验装置提供了最有效的壁处理方法。
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数据更新时间:2023-05-31
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