电子束光刻是集成电路和光电集成工业以及新一代纳米器件研究领域中用于制作纳米图形的一项关键技术。目前使用的单电子束光刻存在产率低的问题,难以满足大面积高速纳米图形制作的要求,采用平行电子束光刻是解决上述难题的有效手段。本项目探索采用碳纳米管、ZnO纳米线和硅纳米线研制单根纳米冷阴极电子源阵列,目标应用为平行电子束光刻。研究内容包括:采用紫外光光刻和纳米催化剂颗粒定位相结合的方法实现纳米尺度定位,制备
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数据更新时间:2023-05-31
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