极紫外多层膜闪耀光栅制备方法研究
基本信息
批准号：60678034
项目类别：面上项目
资助金额：31.00
负责人：金春水
学科分类：
依托单位：中国科学院长春光学精密机械与物理研究所
批准年份：2006
结题年份：2009
起止时间：2007-01-01 - 2009-12-31
项目状态： 已结题
项目参与者：李立峰,张立超,林慧,孟祥峰,金伟华,朱洪力
关键词：
多层膜极紫外衍射光栅软X射线正入射
结项摘要
极紫外/软X射线（EUV/SXR）多层膜光栅是集多层膜的高反射率与光栅的高光谱分辨于一身的新型光学元件。它使得在EUV/SXR波段采用非掠入射、高衍射效率、高光谱分辨率的分光元件成为可能，在天体观测、同步辐射光束线等领域具有广阔的应用前景。与多层膜矩形光栅相比，多层膜闪耀光栅通过将多层膜的反射峰值波长与光栅的闪耀波长相匹配，能够获得更高的衍射效率和光谱分辨率，具有极高的应用价值。.本项目着眼于国内外EUV/SXR多层膜闪耀光栅研究状况，以突破实用化EUV/SXR多层膜闪耀光栅制备中所需关键技术为目标，重点开展多层膜闪耀光栅设计、超光滑闪耀光栅制作方法、适应闪耀光栅衬底的EUV多层膜沉积工艺以及多层膜稳定性研究，力争为多层膜闪耀光栅在EUV/SXR波段的实用化奠定学术与技术基础。
项目摘要
项目成果
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数据更新时间：2023-05-31
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