本项目将对具有纳米结构的光电子薄膜器件在制备过程中的动态光谱学性质获取技术和方法进行研究,通过采用对光谱信息进行快速检测和分析的新原理和新方法,克服过去利用极值法控制薄膜厚度的缺陷,采用实时反射和透射宽光谱双重监控分析方法,实现包括制备复杂非规整薄膜(非1/4光学厚度)系器件的光谱学控制。该光谱分析和控制系统将显著提高薄膜器件的质量和可靠性。该项目包括两方面的内容:.(1)、快速宽光谱获取和分析技术研究。.(2)、纳光子薄膜器件制备过程中的原位宽光谱检测和特性分析研究。.通过本项目的研究,将建立一套完善的纳光子器件制备过程中的原位实时快速光谱检测和特性分析实验系统,实现对高性能纳光子薄膜器件制备的自动控制。
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数据更新时间:2023-05-31
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