并行程序设计环境及工具的研究

本项研究发展了一种新的更为简便实用的方法，可以以对电子全息图中的微小的位相变化进行放大、测量，可以用来研究异质界面两侧的不同材料对电子波位相的影响，这一方法在国际上受到了好评；还首次在国内获得了干涉条纹间距为0.07nm的电子全息图和Si的高分辨象上迭加有0.1nm干涉条纹的电子全息图，并利用计算机进行位相和振幅重构。另外，还有相干电子衍射，测量场发射枪电镜的物镜球差系数等方面开展了研究工作。