高结晶度石墨薄膜的研制

本课题围绕着高结晶度石墨薄膜的制备进行了相关的应用基础研究工作。首先用热重分析、红外和元素分析法对原材料进行了精心分析、筛选、合成和成膜。针对性地制定了合理的炭化和高温石墨化工艺参数，制备出了类似于石墨单晶的灰黑色金属光泽的高结晶度石墨薄膜。同时，结合制备工艺条件除用上述分析测试手段外，还用光电子能谱、拉曼光谱、X光衍射和原子力显微镜等分析工具间断和在位剖析了原料、中间产物和最终样品的结构，特别提出了PI原膜变为石墨结构的转化机理和规律，率先观测到碳原子间的距离为0.25nm和层厚度为2.9nm和获得了漂亮的AFM形貌图和原子级分f率的AFM图象。在此期间，写出了论文15篇和申请发明专利一项，培养了两名硕士生。