多孔光学薄膜激光损伤机制研究及制备工艺探索

基本信息
批准号:10804090
项目类别:青年科学基金项目
资助金额:24.00
负责人:夏志林
学科分类:
依托单位:武汉理工大学
批准年份:2008
结题年份:2011
起止时间:2009-01-01 - 2011-12-31
项目状态: 已结题
项目参与者:薛亦渝,黄才华,马中杰,杨芳芳,郭培涛,付志伟,李展望
关键词:
多孔薄膜热力学性能吸收机制激光损伤
结项摘要

激光核聚变的提出和高功率激光系统的建立,对光学薄膜的抗激光损伤性能提出了越来越苛刻的要求。实验证明多孔光学薄膜在抗激光损伤能力上表现优异。本项目拟开展多孔薄膜结构、热力学性能以及损伤特性的研究;多孔薄膜激光损伤机制与过程研究,尤其是其对激光能量的吸收机制和多孔结构对其局部应力集中缓解机制的研究。系统地分析多孔结构对薄膜热力学性能的影响,以及结构和热力学性能对薄膜抗激光损伤能力的影响,为拟定制备工艺探索实验的计划、提高薄膜抗激光损伤能力提供指导性意见,可以避免实验探索的盲目性。本项目还拟采用电子束蒸发方法,探索多孔薄膜制备工艺流程及相关参数,制备具有高激光损伤阈值的多孔结构光学薄膜。该方法可以克服溶胶-凝胶工艺所带来的环境污染及对操作人员健康的伤害,项目的实施具有重要的环保意义和广阔的应用前景。

项目摘要

项目成果
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数据更新时间:2023-05-31

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