建立了包括信号发生器、恒电信仪、数据采取和薄层电化学池的薄膜电化学沉积三电极系统,研究了在ITO导电薄膜衬底之上的CdTe和CdxHg1-xTe的共沉积过程和机理,如溶液浓度,温度,PH值,搅拌以及沉积电势,电流等,用俄歇电子能谱,扫描电子显微镜等分析了薄膜的化学成份,微观结构和形貌。制备出了Cd/Te比可控,厚度为60至100A°的CdTe和CdxHg1-xTe半导体薄膜。深入系统地研究了欠电势下原子层外延CdTe的制备工艺和规律,测定并确定了Cd和Te的欠电势沉积电极电位,研究了欠电势下单原子层Cd和Te的沉积条件。在单晶Si-Au(111)取向的衬底上获得了多原子层交替外延的CdTe薄膜。用原子力显微镜分析了薄膜的微观结构,观察到沉积膜颗粒沿某一方向具有较明显的择优取向。
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数据更新时间:2023-05-31
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