基于Baskes近年提出的可调参数的LJ-EAM多组元分析势,采用分子动力学模拟方法,以可调失配度的理想衬底上(111)外延生长Ni薄膜为对象,研究失配度、衬底温度、生长速率、沉积原子动能和入射角对外延膜内部应力分布及其演变、失配位错形成的临界厚度与微观过程的影响;模拟分析表面形貌和表面机械微扰对薄膜应力分布以及失配位错形成的影响;提出失配位错的形核机制并基于它推导出失配位错形核能垒及临界厚度的表
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数据更新时间:2023-05-31
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