氮化硼/二氧化硅复相陶瓷的强化机理研究

氮化硼/二氧化硅复相陶瓷是一种适用于超高速飞行器的候选透波材料。该复相陶瓷的抗弯强度最高可达六方氮化硼（h-BN）或石英玻璃（SiO2）的4～7倍，出现了所谓的共增强效应。目前，对于h-BN/SiO2复相陶瓷中的这种共增强效应的机理还不是很清楚，有必要作进一步的研究。本项目的主要研究内容包括多组分h-BN/SiO2纳米复相陶瓷的制备；材料力学性能与相含量之间的函数关系研究；利用电子能量损失谱（EELS）对纳米尺度的微观区域进行成分分析；利用红外光谱（IR）和光电子能谱（XPS）对材料的成键状态和组成进行检测；利用扫描电镜（SEM）、透射电镜（TEM）和高分辨透射电镜（HRTEM）观察材料的微观形貌与断口特征，研究h-BN和SiO2在纳米尺度的共生方式及断裂机理等。最终，按照成分、结构决定材料性能的一般规律，通过深入细致的工作，进一步揭示h-BN/SiO2复相陶瓷共增强效应的本质。