用于高平均功率二极管激光器的薄膜技术研究
基本信息
批准号：10576036
项目类别：联合基金项目
资助金额：33.00
负责人：李效民
学科分类：
依托单位：中国科学院上海硅酸盐研究所
批准年份：2005
结题年份：2008
起止时间：2006-01-01 - 2008-12-31
项目状态： 已结题
项目参与者：丁爱丽,高相东,柏胜强,边继明,陈同来,赵俊亮,张霞
关键词：
光学薄膜脉冲激光沉积过渡层技术激光损伤阈值
结项摘要
高平均功率的二极管泵浦固体激光器作为一种应用前景广阔的新型激光器，其飞速发展相应地给光学薄膜技术提出了进一步的挑战。由于光学薄膜内部存在的各种缺陷以及多层薄膜之间的应力不匹配等问题，致使光学薄膜的散射损耗较大，抗激光损伤阈值低。本项目拟采取脉冲激光沉积成膜技术，与溶胶-凝胶工艺相结合，通过对工艺参数的精确控制，实现低缺陷含量、接近理想化学计量比的光学薄膜的生长，提高薄膜的各项光学性能指标和激光损伤
项目摘要
项目成果
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暂无此项成果
数据更新时间：2023-05-31
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