多级电场诱导喷嘴阵列可寻址电流体喷印及射流干扰机理研究

基本信息
批准号:51705380
项目类别:青年科学基金项目
资助金额:25.00
负责人:潘艳桥
学科分类:
依托单位:武汉科技大学
批准年份:2017
结题年份:2020
起止时间:2018-01-01 - 2020-12-31
项目状态: 已结题
项目参与者:陈奎生,朱建阳,陶波,余峰,杨哲,刘琥铖
关键词:
射流干扰微纳制造电流体喷印胶体量子点硅基喷嘴阵列
结项摘要

The display device based on quantum dot has excellent luminescent properties, which is expected to lead the next generation of display technology. The core is to fabricate the luminescent layer pattern with high resolution, high efficiency and high uniformity. The high resolution of quantum dots can be achieved by a single nozzle electrohydrodynamic printing. However, the printing efficiency is low. In this project, a new method to improve the printing efficiency based on a new type of addressable electrohydrodynamic printing multi-nozzle is presented. The rheological behaviour of nano composite ink will be studied under the multi-level electric field, and the mechanism of jet’s start-stop control will be clarified to obtain the multi-nozzle addressable printing; The mechanism of jet interference and the affecting laws of parameters will be studied, to construct design optimization window of silicon based nozzle; The addressable electrohydrodynamic printing silicon based nozzle with zero jet interference will be fabricated by MEMS processes; the process parameters will be collaboratively optimized to achieve micron level quantum dot pixels with high efficiency and uniform preparation; it could provide the basis of theoretical and technical support for the design and manufacturing of electrohydrodynamic printing head aiming to the applications in industries.

量子点显示器件具有卓越的发光特性,有望引领下一代显示技术,其核心在于发光层图案的高分辨率、高效率、高均匀性制备。通过单喷嘴电流体喷印量子点能实现高分辨率,但打印效率不足。本项目探索基于新型可寻址喷印硅基多喷嘴的量子点高效喷印方法。研究多级电场作用下纳米复合墨液的场致流变行为,阐明射流可启停喷射的作用机制,揭示基于多级电场控制的可寻址喷印原理;研究多喷嘴可寻址喷印时射流干扰的产生机制及参数影响机理,构建硅基多喷嘴的优化设计窗口;通过微加工工艺制备出零射流干扰的可寻址电流体喷印硅基多喷嘴;协同优化硅基多喷嘴喷印量子点时的工艺参数、基板特性,实现微米级量子点像素的高效均匀制备,为面向行业应用的可寻址电流体喷墨打印头的研制提供关键的基础理论和技术支撑。

项目摘要

量子点显示器件具有卓越的发光特性,有望对信息显示领域带来重大技术变革,其难点在于发光层图案的高分辨率、高效率、高均匀性制备。针对此重大需求,本项目探索基于新型可寻址喷印硅基多喷嘴的量子点高效喷印方法。研究多级电场作用下纳米复合墨液的场致流变行为,阐明射流可启停喷射的作用机制,揭示基于多级电场控制的可寻址喷印原理;研究多喷嘴电流体喷印时空间电场分布模型,射流干扰的产生机制及参数影响机理,提出多喷嘴电流体喷印射流干扰抑制方法;提出新型可寻址式硅基多喷嘴的设计结构,通过微加工工艺制备出零射流干扰的可寻址电流体喷印硅基喷嘴打印头;协同优化硅基喷嘴打印头喷印量子点时的工艺参数,实现微米级量子点像素的高效均匀制备,为面向行业应用的可寻址电流体喷墨打印头的研制提供关键的基础理论和技术支撑。在在Journal of Micromechanics and Microengineering、Micromachines、自动化仪表、3rd International Conference on Advanced in Materials, Machinery, Electronics (AMME),2nd International Conference on Advanced Algorithms and Control Engineering (ICAACE)等国内外期刊和会议上发表论文7篇,其中SCI论文2篇,EI论文2篇,ISTP论文2篇,申请国家发明专利2项。

项目成果
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数据更新时间:2023-05-31

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