具有磁共振成像性能高分子的研究
基本信息
批准号：29274172
项目类别：面上项目
资助金额：5.00
负责人：付功成
学科分类：
依托单位：武汉大学
批准年份：1992
结题年份：1995
起止时间：1993-01-01 - 1995-12-31
项目状态： 已结题
项目参与者：胡运华,彭普平,蔡雪刁,徐文兰
关键词：
***
结项摘要
项目摘要
项目成果
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数据更新时间：2023-05-31
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