利用超高真空磁控溅射设备生长高质量的磁性薄膜,利用电子束曝光、反应离子刻蚀等微纳米加工设备,制备具有高对称性的外直径从100纳米到10微米,壁宽从20纳米到2微米的圆环形磁性薄膜;进一步通过磁力显微镜、洛伦兹透射电镜、磁光科尔、电阻测量等多种表征手段,深入理解磁性圆环的直径、壁宽和厚度对于磁畴组态的影响。重点研究壁宽为20-100纳米的磁性圆环的磁畴组态、不同磁畴组态的控制、磁畴壁的运动、任意两种磁畴组态之间的转换、以及能量平衡态在其中所起的作用等问题。通过观测磁场和极化电流驱动的畴壁移动,研究畴壁移动的动力学过程和机制,找到减小临界驱动极化电流(或密度)的有效方法和途径。通过研究多阻态的实现方式和有效控制手段,为发展具有自主知识产权的新型磁逻辑和磁存储器件,奠定物理和材料上的基础。
利用超高真空磁控溅射设备生长了高质量的磁性薄膜,利用电子束曝光、反应离子刻蚀等微纳米加工设备,制备出了一系列具有高对称性的外直径从100 纳米到10 微米,壁宽从20 纳米到2 微米的圆环形磁性薄膜;进一步通过磁力显微镜、洛伦兹透射电镜、磁光科尔、电阻测量等多种表征手段,深入研究了磁性圆环的直径、壁宽和厚度对于磁畴组态的影响。重点研究了壁宽为20-100 纳米的磁性圆环的磁畴组态、不同磁畴组态的控制、磁畴壁的运动、任意两种磁畴组态之间的转换、以及能量平衡态在其中所起的作用等问题。通过观测磁场和极化电流驱动的畴壁移动,研究了畴壁移动的动力学过程和机制,进一步减小了临界驱动极化电流密度。该项目的研究为发展具有自主知识产权的新型磁逻辑和磁存储器件,奠定了物理和材料上的基础。
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数据更新时间:2023-05-31
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