本项目主要研究金刚石的场发射特性及应用,研究硅衬底上金刚石薄膜厚度、非晶碳成分对其场发射特性的影响,发现金刚石薄膜存在一最佳厚度,这个厚度的金刚石薄膜均发射阈值电场低、发射电流大;适当含量的非晶碳可使金刚石既有较低的阈值电场、又有较大的发射电流。低成核密的金刚石薄膜场发射阈值电场较低。采用酸处理金刚石表面,可以有效地改善金刚石场发射特性。N离子注入金刚石薄膜可以引起两个阶段的发射,在前一阶段剂量越高、阈值电场越低,后一阶段则阈值电场越高。用一步湿法刻蚀方法制备了尖端曲率半径为15nm的微尖阵列。并在其上生长了金刚石包层,使硅微尖大大降低了阈值电场,并在较低的真空条件下仍有良好的发射稳定性。
{{i.achievement_title}}
数据更新时间:2023-05-31
High Performance Van der Waals Graphene-WS2-Si Heterostructure Photodetector
中温固体氧化物燃料电池复合阴极材料LaBiMn_2O_6-Sm_(0.2)Ce_(0.8)O_(1.9)的制备与电化学性质
一种基于多层设计空间缩减策略的近似高维优化方法
二维FM系统的同时故障检测与控制
非牛顿流体剪切稀化特性的分子动力学模拟
基于广义塑性力学与次加载面理论的土体循环塑性模型及其应用研究
弹粘塑性损伤材料亚宏观力学模型及本构关系
基于三维弹塑性本构的土质滑坡高精度动力学模型研究
正交异性塑性本构关系研究