花岗石材高光泽度饰面层显微结构分析及其形成机理研究

综合现代理化测试手段查实在花岗石高光泽度饰面上并无新生物相生成。饰面温度解析与实验测定都确证磨抛本身不可能提供新生物相所需的高温条件。用于跟踪观测饰面形成不同阶段上的表面温度、形貌、结构、粗糙度与光泽度的大型综合实验科学揭示，在磨料粒度次第减小的磨抛作业中石材去除机制会自脆性域向延性域转移，高光泽度饰面本质上只是石材经充分延性磨抛后获得的低粗糙度表面。作为例证，磨抛国产山西黑花岗石材至Ra=91nm时成功获得了光泽度超过100的优质饰面。最终提出以硬脆材料镜面磨工艺来规范和改造国内现有石材磨抛工艺的创新构想，可望为我国开发出具有自主知识产权的花岗石高光泽度饰面高效磨抛的关键技术，其技术经济意义未可限量。