离子束辅助沉积制备涂层导体缓冲层双轴织构的形成机制研究

YBCO 涂层导体是目前高温超导材料发展的重要方向之一，缓冲层的制备是制作涂层导体的重要环节；制备缓冲层的各种工艺中，离子束辅助沉积（IBAD）技术具有独特的优势。本项目拟研究在金属衬底上用IBAD技术制备涂层导体缓冲层双轴织构的形成机制。通过改变辅助离子束的参数、衬底的状况和薄膜厚度等方面的因素制备钇稳定的氧化锆（YSZ）和氧化镁（MgO）薄膜，研究薄膜的晶体取向特性和IBAD各种工艺参数之间的定量关系；引入晶体生长动力学的观点，解释金属基带上IBAD薄膜生长的微观机制；构建理论模型并进行数值模拟。本项目在研究内容和方法上都有创新意义，并且完成本项目的实验和人员条件已经具备。本项目的实施和完成将对涂层导体的发展和高温超导体的应用，具有重大的科学意义和实用价值。