同步辐射X射线暴光是最有前途的一种亚微米光刻技术,利用金刚石薄膜优异的光学,力学性能制作光刻掩模,研究金刚石膜的工艺,结构与X射线透过率的关系;金刚石掩模板的设计,制备技术;同步辐射X射线光刻应用的基础理论。对促进同步辐射X射线光刻应用和加速我国微电子工业的发展有重大意义。
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数据更新时间:2023-05-31
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