高分辨率X射线相位成像单晶薄膜的制备及性能研究

由闪烁单晶薄膜荧光屏、显微光学系统和CCD器件构成的X射线闪烁探测器具有微米或亚微米空间分辨率、快速在线探测等特点，在相位衬度成像、全息成像、时间分辨和计算机微断层成像（μCT）等领域具有广阔的应用前景。闪烁单晶薄膜的探测量子效率（DQE）是表征X射线探测器信噪比的关键因素。本项目拟采用液相外延技术制备铈离子掺质硅酸镥钇闪烁单晶薄膜（Ce:LuYSO），通过调节薄膜中Lu/Y组分配比并通过Eu、Tb等稀土离子与Ce离子共掺质，研究薄膜形貌及其发光行为，以获得具有较高光学质量和较高探测量子效率的闪烁单晶薄膜，以满足高分辨率X射线成像技术的需要。该项目的立项研究不仅对亚微米显微成像具有重要的科学意义，而且对加强国际合作、提高我国在X射线相位成像领域中的研究和开发能力也具有十分重要的现实意义。