采用原位Ar—H2等离子体刻蚀脱碳、Ar—H2—CH4等离子体渗碳处理,探讨在普通硬质合金砻婵焖倬弥票赋鲎员聿阒晾顲o含量平缓递增、WC晶粒尺寸递增的纳米晶外层形成机理;迪钟仓屎辖鹜獗聿憔哂懈咔慷取⒏哂捕取⒏呷托浴⒏吣湍バ裕⒒竦檬手胁杏嘌褂αΓ牟勘3止逃懈呷托浴⒏呖雇淝慷龋唤饩銎溆捕扔肴托缘拿埽岣咂渥酆匣敌阅芎褪褂眯阅堋
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数据更新时间:2023-05-31
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