一种新的三维悬浮碳微纳结构制备方法研究

基本信息
批准号:50875103
项目类别:面上项目
资助金额:33.00
负责人:汤自荣
学科分类:
依托单位:华中科技大学
批准年份:2008
结题年份:2011
起止时间:2009-01-01 - 2011-12-31
项目状态: 已结题
项目参与者:来五星,陈志凌,龚杰,姚园媛,马伟
关键词:
悬浮厚胶光刻碳微纳结构掩模效应微纳制造
结项摘要

三维悬浮碳微纳结构的制备有助于碳微纳结构特性的纳米级精确测量,并作为互联结构在医学、生物和微纳电子器件及系统的三维集成中有广泛的应用前景。在光刻胶中掺入特殊纳米颗粒(如纳米线或球等),纳米颗粒的掩模效应将导致常规厚胶光刻工艺制备的三维微结构上端衍生出新的微纳米级悬浮结构。纳米颗粒在光刻胶中的分布、尺寸大小等因素将影响悬浮结构的生成特征。为此本项目提出基于厚胶光刻的掩模效应制备三维悬浮碳微纳结构的新方法。着重开展掩模效应下的三维悬浮碳微纳结构的生成过程、生成机理和制备工艺的控制和优化等研究。通过厚胶光刻曝光过程的掩模效应的理论建模、计算机模拟和实验相结合研究三维悬浮微纳结构的生成过程和机理;通过掩模颗粒材料的选择、工艺参数的优化设计和特征实验探索三维悬浮碳微纳结构的新制备工艺。为三维碳微纳结构制备提供新的理论、方法和工具,丰富我国微纳制造的基础理论,并有力推动我国微纳制造技术的完善和发展。

项目摘要

项目成果
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数据更新时间:2023-05-31

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