基于分层部分氘化KDP晶体的宽带激光三倍频技术研究

本项目针对大型钕玻璃激光装置目前急需的1.2 nm和今后发展需要的4 nm宽带激光三倍频，提出和研究新的1054 nm波长宽带激光三倍频技术方案，其核心是单片式的分层部分氘化KDP混频晶体，它具有位相匹配波长的可变设计性。该宽带三倍频技术方案无需应用光栅等角色散元件，可同时保证位相匹配带宽和效率。理论上，将重点研究该混频晶体情况时和频过程的"倒流"问题，形成抑制"倒流"的有效措施。实验上，将分别研究1.2 nm和4 nm宽带激光的三倍频特性，并对分层混频晶体设计进行考核。本项目紧密结合了国家科技重大专项的需求，将对今后高功率、高能量钕玻璃大型激光装置的发展起到深远的影响。此外，宽带三倍频技术的发展有着重要的科学意义，和拍瓦钕玻璃大型激光系统相结合，将有望产生紫外波长（351 nm）的拍瓦激光脉冲。